半导体真空腔体的应用

半导体真空腔体的使用

等离子清洗机又称等离子清洁机,离子外表处理仪,是一种全新的高科技技能,使用等离子体来到达常规清洗办法无法到达的作用.等离子体的“活性”组分包含：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等.等离子清洁机就是经过使用这些活性组分的性质来处理样品外表,然后实现清洁、涂覆等目的.

在铝合金腔体里,经过射频电源在必定的压力情况下会发生高能量的无序的等离子体,经过等离子体炮击被清洗产品外表．以到达清洗目的．

等离子清洗机的结构首要分为三个大的部分组成,分别是操控单元、真空腔体以及真空泵

一、操控单元

国内使用的等离子清洗机,包含国外进口的,操控单元首要分为全自动操控、半自动操控、PC电脑操控、液晶触摸屏操控四种方式.

其间操控单元又分为两部分：

1.电源部分：首要电源频率有三种,分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其间13.56MHz是需求电源匹配器的.

2.系统操控单元：按钮操控（半自动、全自动）、电脑操控、PLC操控（液晶触摸屏操控）.

二、真空腔体：

真空腔体首要是分为两种原料的：

1.不锈钢真空腔体

2.铝合金腔体

三、真空泵：

方形真空腔体分为两种：

1.干泵

2.油泵